Intel представила 10 нм техпроцесс SuperFin

[Всего голосов: 0    Средний: 0/5]

Вчера в четверг компания Intel сделала несколько интересных технических анонсов, в ходе которых рассказала о своем новом технологическом процессе – 10 нм SuperFin. Одновременно с этим компания решила изменить способ обозначения техпроцесса в описании процессоров. Теперь вместо нм ++ (где каждый знак “+” обозначает усовершенствование) на более описательное именование. Новый 10 нм техпроцесс SuperFin – это первая доработка 10 нм процесса уже разработанного в компании. Он дебютировал с процессорами Intel Core 10-го поколения в прошлом году и принес повышенную энергоэффективность, сравнимую с 7 нм техпроцессами TSMC и Samsung.
Новый техпроцесс SuperFin 10 нм принесет двух ключевых нововведения: конденсаторы SuperMIM и переработанные транзисторы FinFET. Новый конденсатор SuperMIM (с металлическим изолятором) обеспечивает увеличение емкости в 5 раз, по сравнению с устройствами этого класса. Модернизированные транзисторы FinFET получили новый барьер, который снижает сопротивление на 30%. В совокупности техпроцесс 10 нм SuperFin существенно улучшает показатели процессоров, без каких-либо изменений в плотности транзисторов. Первым продуктом, построенным по процессу 10 нм SuperFin, будут процессоры “Tiger Lake”, предназначенные для клиентского сегмента.

Похожие новости из раздела:

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Главные события

Актуальные новости

Scroll Up