Вчера в четверг компания Intel сделала несколько интересных технических анонсов, в ходе которых рассказала о своем новом технологическом процессе — 10 нм SuperFin. Одновременно с этим компания решила изменить способ обозначения техпроцесса в описании процессоров. Теперь вместо нм ++ (где каждый знак «+» обозначает усовершенствование) на более описательное именование. Новый 10 нм техпроцесс SuperFin — это первая доработка 10 нм процесса уже разработанного в компании. Он дебютировал с процессорами Intel Core 10-го поколения в прошлом году и принес повышенную энергоэффективность, сравнимую с 7 нм техпроцессами TSMC и Samsung.
Новый техпроцесс SuperFin 10 нм принесет двух ключевых нововведения: конденсаторы SuperMIM и переработанные транзисторы FinFET. Новый конденсатор SuperMIM (с металлическим изолятором) обеспечивает увеличение емкости в 5 раз, по сравнению с устройствами этого класса. Модернизированные транзисторы FinFET получили новый барьер, который снижает сопротивление на 30%. В совокупности техпроцесс 10 нм SuperFin существенно улучшает показатели процессоров, без каких-либо изменений в плотности транзисторов. Первым продуктом, построенным по процессу 10 нм SuperFin, будут процессоры «Tiger Lake», предназначенные для клиентского сегмента.
Похожие новости из раздела:
- TSMC расширяет производство продукции по 16 нм FinFET технологии
- NVIDIA производит чип Turing на фабрике Samsung
- 8-ядерный процессор Intel Tiger Lake-H представят к концу 2021 года
- Процессоры Intel Tiger Lake-U получат высокую частоту